Lithium Niobate (LiNbO3) Ffilm Thin​

Jan 15, 2026

Gadewch neges

Lithium Niobate (LiNbO3) Ffilm Thin​

Mae ffilm denau Lithium Niobate (LiNbO3) yn ddeunydd craidd ar gyfer dyfeisiau ffotoneg integredig a thonnau acwstig arwyneb, sy'n chwarae rhan unigryw mewn modulatyddion optegol perfformiad uchel, canllawiau tonnau, synwyryddion, a hidlwyr RF oherwydd ei briodweddau optegol electro rhagorol, acwstig -optig ac aflinol. Mae'n cynnwys mynegai plygiant uchel, ffenestr tryloywder eang, cyfernod optig electro cryf, a sefydlogrwydd cemegol da, sy'n galluogi modiwleiddio signal optegol effeithlon a thrawsyriant colled isel. Fodd bynnag, mae ansawdd wyneb ffilmiau tenau LiNbO3 yn effeithio'n uniongyrchol ar golled optegol, effeithlonrwydd modiwleiddio, a dibynadwyedd dyfeisiau, yn enwedig mewn cymwysiadau pŵer uchel amledd ac uchel, sy'n galw am garwedd arwyneb, gwastadrwydd a chywirdeb uwch.

Mae gan Hemei Company arbenigedd systematig mewn prosesu ffilmiau optegol uwch a deunyddiau crisial. Gan dargedu nodweddion materol ffilmiau tenau LiNbO3, mae Hemei wedi datblygu datrysiad caboli a phlaneiddio sy'n cyflawni cywirdeb arwyneb uchel tra'n lleihau difrod arwyneb is-. Mae'r broses hon yn cwmpasu'r llif gwaith trin wyneb cyfan o baratoi ffilm epitaxial i integreiddio dyfais post, gan sicrhau ei fod yn bodloni'r gofynion llym ar gyfer arwynebau llyfn lefel atomig, colled gwasgariad isel, ac unffurfiaeth optegol ardderchog a fynnir gan systemau cyfathrebu optegol cyflym iawn, opteg cwantwm, a systemau RF.

Gofynion Cais

Mae'r amcanion ar gyfer caboli a thrin wyneb ffilmiau tenau LiNbO3 yn cynnwys:

Lleihau garwedd wyneb (Ra) i< 0.5 nm​ to minimize transmission loss in waveguides and insertion loss in modulators.

Cyflawni amrywiad trwch cyfanswm (TTV) o Llai na neu'n hafal i 1 μm ​ i sicrhau cysondeb mewn dosbarthiad maes optegol a thrydan.

Cael arwyneb rhydd o ddifrod heb unrhyw is-ddiffygion arwyneb, sy'n bodloni'r gofynion ar gyfer effeithlonrwydd modiwleiddio uchel ac oes hir y ddyfais.

Rheoli unffurfiaeth trwch (TTV) o fewn ystod -micromedr penodol.

Er mwyn cyflawni'r nodau hyn, mae proses Hemei yn defnyddio systemau bondio wedi'u teilwra a gweithdrefnau caboli aml-gam i sicrhau cywirdeb geometrig a chywirdeb arwyneb wrth brosesu.

Manylebau System

Mae system caboli modiwlaidd Hemei yn cefnogi prosesu ffilmiau tenau LiNbO3 o wahanol feintiau a siapiau. Mae systemau craidd yn cynnwys:

​HSM{0}}Cyfarpar lapio cyfres L/LP:​​ Ar gyfer tynnu deunydd cychwynnol a rheoli trwch.

​HSM-System Gloywi Mecanyddol Cemegol Cyfres CMP (CMP):​​Ar gyfer cyflawni arwynebau hynod esmwyth, llyfn-rhydd.

Mae is-systemau allweddol yn cynnwys:

Wafer/Crystal-Uned Bondio (WB) benodol

Gosodion Sgleinio Manwl Cyfres SJ/ASJ

C-ASJ Drive Head High-System sgleinio Cyflymder

Llif Prosesu

Bondio a Mowntio: Mae ffilm denau LiNbO3 wedi'i bondio dros dro i blât cludo gan ddefnyddio'r uned WB, yna wedi'i osod ar y gosodiad caboli.

​Caboli Garw a Chanolradd: Mae lapio rheoledig yn cael ei berfformio ar yr offer HSM-L i gael gwared ar yr haen difrod prosesu.

​Caboli Manwl: Mae'r system HSM{0}}CMP yn perfformio'r sglein terfynol. Mae paramedrau fel gwasgedd, cyflymder cylchdroi, a llif slyri yn cael eu haddasu mewn-amser real i gyflawni llyfnder arwyneb lefel nanomedr.

Canlyniadau Nodweddiadol

Garwedd wyneb (Ra) gostwng i< 0.5 nm.

Amrywiad trwch cyfanswm (TTV) Llai na neu'n hafal i 1 μm.

Difrod{0}}wyneb rhydd heb unrhyw is-ddiffygion arwyneb.

Cyfradd tynnu deunydd y gellir ei reoli o ​{0}} μm/mun.

Mae Hemei Company yn darparu datrysiad caboli a phlaneiddio cyflawn y gellir ei reoli ar gyfer ffilmiau tenau Lithium Niobate. Mae'r datrysiad hwn yn darparu ansawdd arwyneb lefel atomig yn sefydlog a pherfformiad ffotodrydanol rhagorol, gan gefnogi cymhwysiad diwydiannol a gwella perfformiad ffilmiau tenau LiNbO3 yn gadarn mewn meysydd ymylol megis cyfathrebu optegol cyflym iawn, sglodion ffotonig integredig, ffotoneg microdon, synhwyro, a phrosesu gwybodaeth cwantwm.

Anfon ymchwiliad